Reaktives Plasmaabscheidungssystem
Die RPD-Serie ist ein reaktives Plasmaabscheidungssystem und kann leistungsstarke, funktionale LED-Filme (ITO und AlN) zu niedrigen Kosten in Masse produzieren.
EIGENSCHAFTEN:
1. Durchführung sowohl der Aktivierung als auch der Verdunstung von Ablagerungsmaterialien durch Einsatz einer reaktiven Plasmaquelle.
2. Hochwertiger kristalliner Film durch Anwendung optimaler Energie.
3. Massenproduktion bei niedriger Temperatur und niedrigen Kosten.
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Spezifikationen von RPD-1011
| Kammergröße |
1000 mm × H1165 mm |
| Substrat Dome |
φ 870 mm |
| Max. Kuppeldrehzahl |
10 - 30 Umdrehungen pro Minute |
| Kristall Flim Dicke Monitor |
6 Punkte Drehsensor |
| Ionenquelle |
Reaktive Plasmaquelle |
| Leistung |
|
| Enddruck |
1.0E-4 Pa oder niedriger |
| Pumpengeschwindigkeit |
20 min (vom Luftdruck auf 1,3 × 10-3 Pa) |
| Utility Anforderungen |
|
| Fußabdruck |
4000 mm (B) × 6000 mm (D) × 2800 mm (H) ca. |
| Stromversorgung |
3-Phasen, 200 V ± 5%, 75 kVA, ca. |
| Minimal Wasserfluss |
80 Q /min oder größer |
| Luftdruck |
0,5 MPa - 0,7 MPa |
| Gewicht |
4000 kg ca. |
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